工业闪存的生产工艺
2023年12月21日 | admin
工业闪存的生产工艺涉及多个步骤和技术，下面是一般工业闪存生产工艺的概述：
晶圆制备：从原始的硅材料加工成晶圆(Wafer)，一片晶圆上可以制造出多颗闪存芯片。
光刻：使用精密的光罩和感光制程，在晶圆上涂覆光阻，然后通过光刻机将光阻图案转移到晶圆上，形成电路的图案。
蚀刻：使用化学蚀刻技术，将晶圆上未被光刻保护的部分进行蚀刻，形成电路的凹槽和结构。
金属蒸镀：在晶圆上进行金属蒸镀，形成电路的导线和连接器。在工业闪存的生产工艺中，金属蒸镀起着重要的作用。金属蒸镀是一种将金属蒸发并使其附着在素材表面形成薄膜的方法。它可以通过物理蒸镀(PVD)或化学蒸镀(CVD)来实现。金属蒸镀在工业闪存的生产中具有以下作用：形成保护层、提高导电性、改善信号传输、增加反射性、提升外观质感。
注入：将闪存芯片的基础结构注入浮栅晶体管和其他必要的元件。
封装和测试：将单个芯片封装成完整的闪存颗粒，然后进行功能测试和质量检验。
制造成品：将封装好的闪存颗粒组装到闪存模块或设备中，形成最终的工业闪存产品。
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